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丹顿真空设备(北京)有限公司 磁控溅射 等离子体增强化学气相沉积 物理气相沉积
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美国丹顿真空设备有限公司成立于1964年,是世界知名真空镀膜设备制造商。从成立至今,丹顿真空已为全球客户设计制造了总数超过5千台的各种规格的电阻/电子束蒸发、磁控溅射、离子束溅射/刻蚀和等离子体化学气相沉积镀膜系统,产品广泛应用于科研开发、小规模制造和工业生产等领域。

丹顿真空具有美国军工资质,从成立伊始即成为美国军方签约的设备供应商,为美国军品研发和制造提供真空镀膜设备。作为美国老牌“军工”企业,丹顿真空以设备的实用性和可靠性见长。

丹顿真空从2001年开始进入中国市场,目前在国内设备保有量接近100台。为了更好地服务中国客户,丹顿真空于2003年成立了丹顿真空北京代表处,全权负责丹顿真空在中国地区的推广销售和售后服务。

丹顿真空设备(北京)有限公司
工商信息
公司名称:
丹顿真空设备(北京)有限公司
注册号:110000450221676
成立时间:2012-11-20
营业期限:
2012-11-20至2032-11-19
法人:刘鹏
机构代码:055558140
联系方式:82254885
官方网址:http://www.dentonvacuum.com.cn/
公司类型:有限责任公司(外国法
注册资本:20万元美元
登记机关:北京市工商行政管理局(登记业务及档案查询在所在地工商分局办理。)
省份:bj
注册地址:北京市顺义区李遂镇李遂村南孙路李遂段8号院7幢3007室
信用代码:
核准时间:2016-09-13

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